“하이NA EUV로 차세대 경쟁력 갖추자” ASML, 삼성전자와 R&D 협력 위해 한국 상륙
동탄2신도시에 R&D 지원 시설 신설하는 ASML’하이NA EUV’ 중심으로 협력 관계 구축 예정삼성전자, 2nm 이하 최첨단 공정 경쟁력 강화 기대 네덜란드의 반도체 장비 업체 ASML이 한국에 연구개발(R&D) 시설을 건립, 삼성전자와의 협력을 본격화한다. 삼성전자는 차후 ASML과 극자외선 노광장비(EUV) 부문 협력을 강화하며 본격적으로 2nm(나노미터) 미만 첨단 파운드리 공정 경쟁력을 갖춰나갈 예정이다. ASML, 화성시에 1조원 투자 경기도 화성시는 이달…